在半導(dǎo)體芯片的制造過(guò)程中,需要將硅晶圓加熱至較高的溫度以進(jìn)行退火、外延生長(zhǎng)和刻蝕處理,隨著芯片制造廠的升級(jí)優(yōu)化,如何在保證晶元高效加熱與出色溫度均勻性的同時(shí),更大限度地減少能源消耗成為了新的挑戰(zhàn)。傳統(tǒng)的晶元加熱方法通常能耗高且材料損耗大,而激光加熱方案逐漸經(jīng)過(guò)測(cè)試驗(yàn)證,被晶元制造商認(rèn)為是一種前沿、更可持續(xù)的替代選擇加熱方案。 近期,IPG配合一家晶元用戶進(jìn)行了激光紅外加熱的實(shí)驗(yàn),分別記錄了將硅晶圓均勻加熱至額定溫度所需的時(shí)間和功率的變化、以及關(guān)閉激光器后的冷卻曲線,最后工程師將實(shí)驗(yàn)結(jié)果完成了晶元加熱模型預(yù)測(cè)。
01 實(shí)驗(yàn)方法 在常溫實(shí)驗(yàn)環(huán)境下,工程師使用11kW DLS-ECO激光器對(duì)硅晶元進(jìn)行了快速加熱,在不到9秒的時(shí)間內(nèi)晶元表面即達(dá)到了800攝氏度。隨后工程師調(diào)整了激光器功率,大約8.1kW的激光功率即可將晶元穩(wěn)定維持在該溫度。
加熱至800攝氏度的硅晶圓;顏色體現(xiàn)激光在晶圓表面加熱均勻 隨后工程師選擇了0.86-8.1kW恒定功率范圍內(nèi)的六種不同激光功率設(shè)置下進(jìn)行數(shù)據(jù)采集,使用戶可以建立一個(gè)涵蓋廣泛功率輸入、溫度和晶元直徑大小的實(shí)驗(yàn)?zāi)P汀崃W(xué)模型結(jié)合了激光的吸收加熱、晶元的輻射和對(duì)流損失,以及硅的熱容量,每一個(gè)模型都生成了函數(shù)曲線。
擬合熱力學(xué)模型曲線案例 藍(lán)色-升溫和穩(wěn)定狀態(tài);黃色-冷卻 精確匹配了8.1kW功率下的實(shí)驗(yàn)結(jié)果
02 實(shí)驗(yàn)結(jié)果 經(jīng)過(guò)與用戶溝通討論,激光加熱時(shí)晶元高速的升溫時(shí)間以及所需的低穩(wěn)態(tài)功率,與傳統(tǒng)的紅外加熱方式相比具有非常大的優(yōu)勢(shì)——高速加熱時(shí)間顯著提升了產(chǎn)能,加熱時(shí)高達(dá)80%的激光光能被硅晶圓所吸收;較低的能耗功率則是基于激光的高指向性和產(chǎn)品對(duì)激光的強(qiáng)吸收性,在加熱時(shí)幾乎沒有多余的能量被浪費(fèi)。相比之下,紅外燈在加熱作業(yè)時(shí)會(huì)向四周擴(kuò)散多余的熱能,硅晶圓產(chǎn)品對(duì)紅外燈的加熱吸收性能一般,導(dǎo)致了大量的能耗浪費(fèi)。
圖表統(tǒng)計(jì)了加熱到目標(biāo)溫度時(shí)所需的激光功率以及保持恒定溫度所需的功率,工程師調(diào)試出了一個(gè)六邊形的激光幅面,作用在300毫米直徑的晶圓時(shí)僅溢出了8.5%的激光。
03 DLS-ECO系列激光器加熱優(yōu)勢(shì) IPG DLS-ECO系列激光器是一款適用于高功率加熱與干燥應(yīng)用的高效節(jié)能光源,被晶元用戶認(rèn)為是可持續(xù)化晶圓廠商未來(lái)的有力選擇。
DLS-ECO半導(dǎo)體激光器可以將超過(guò)55%的電能轉(zhuǎn)化為可用的光能,激光輸出可以均勻地分布在晶元表面,硅在975nm波長(zhǎng)的激光下具有高吸收性,因此可以高效吸收光能。同時(shí)鏡頭也可根據(jù)晶元尺寸大小進(jìn)行幅面大小的調(diào)整,幾乎沒有多余的能量在加熱時(shí)被浪費(fèi)。
高電光轉(zhuǎn)化率 DLS可將超過(guò)55%電能轉(zhuǎn)化為光能,大大降低能耗費(fèi)用 高組件冗余性 在不適用任何消耗品的情況下提供超過(guò)7年的免維護(hù)運(yùn)行
光纖傳輸設(shè)計(jì) DLS配置超過(guò)15米的光纖傳輸電纜,使得激光光能可以方便地傳輸?shù)焦ぞ咧校瑫r(shí)所有的散熱和電力設(shè)施都保持在潔凈室外。 盡管與傳統(tǒng)的紅外燈或感應(yīng)加熱器相比,激光的前期投入固然較高,但是當(dāng)用戶考慮到激光的可靠性、高效性,以及極低的運(yùn)維成本、顯著的電光轉(zhuǎn)化率等因素,這部分的前期投入溢價(jià)是可以在短期內(nèi)被回收的。 在未來(lái)的芯片制造中,激光將逐漸成為一個(gè)更穩(wěn)定、更可持續(xù)的替代制造方式。
文章來(lái)源:IPG光纖激光器 注:文章版權(quán)歸原作者所有,本文僅供交流學(xué)習(xí)之用,如涉及版權(quán)等問題,請(qǐng)您告知,我們將及時(shí)處理。
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